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製品情報
Half Tone Mask

Half Tone Mask是利用「半透過」的膜,來進行半曝光。因是在1次曝光過程後即可呈現出「曝光部分」「半曝光部分」及「未曝光部分」之3種曝光層次,故在顯影後能夠形成2種厚度的光阻(感光劑)。
藉由利用這樣的光阻厚度差異,便可以用比一般少片數的光罩下,將圖案轉寫至面板基板上,並達成面板生產效率的提升。

用途與規格:
  • 520 × 800 ~ 1220 × 1400:
    LCD/OLED等
產品相關應用