Half Tone Mask是利用「半透過」的膜,來進行半曝光。因是在1次曝光過程後即可呈現出「曝光部分」「半曝光部分」及「未曝光部分」之3種曝光層次,故在顯影後能夠形成2種厚度的光阻(感光劑)。 藉由利用這樣的光阻厚度差異,便可以用比一般少片數的光罩下,將圖案轉寫至面板基板上,並達成面板生產效率的提升。