Mask Blanks
電腦及電子產品是當今社會及經濟的基礎，這些產品的核心是半導體積體電路（IC、LSI），而製作半導體積體電路不可或缺的即是Mask Blanks。
在製造過程中，使用Hard Mask Blanks即可達到轉印40奈米以下的精細
圖案。其中ULCOAT領先業界製作的金屬鉻膜及氧化鉻所構成的低反射空
白光罩，現金已被廣泛運用在世界各LSI廠。
特徵：
主要是在石英基板及青板上，濺鍍鉻膜或矽化鉬形成薄膜，再塗上感光 性材料(電子線用、雷射用光阻等)而成的製品。
用途與規格：
Hard Mask Blanks為半導體顯影製程用的描繪母片，使用於LSI製程所需的光罩上，對應尺寸為2.5”~7.0”
產品相關應用
