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LSI用小尺寸空白光罩
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LSI用小尺寸空白光罩
 
 
 
LSI用小尺寸空白光罩
產品規格 : 2.5 ~ 7.0 Inch
產品介紹

Hard Mask Blanks : LSI描繪母片

電腦及電子產品是當今社會及經濟的基礎,而這些產品的心臟就是半導體積體電路(例如:LSI、超大型LSI)。在半導體積體電路製造中,用來轉印90奈米寬度以下的精細圖案就是使用Hard Mask Blanks。其中ULCOAT領先業界所製作的金屬膜質Mask與氧化鉻所構成之低反射Mask,現今廣泛的被世界各LSI廠商所應用。

■ 特徵

Hard Mask Blanks主要是於石英玻璃或蘇打玻璃上,濺鍍鉻及矽化鉬後形成薄膜,再塗上感光性材料(電子束用、雷射用光阻等)而成的製品。 Hard Mask Blanks可分為低反射鉻膜Mask Blanks及HT相位移Mask Blanks。

■ 用途

Hard Mask Blanks為半導體微顯影製程用之描繪母片,使用於LSI製程上所需之Mask上。

台南市安南區工業三路60號
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